Intel透露“4nm EUV”工艺进展：每瓦性能提升20% 进展良好
Intel 4工艺就是没改名之前的Intel 7nm工艺，它可是Intel接下来非常重要的工艺节点，会首次引入EUV光刻机，能效比再提升大约20％，明年下半年投产，2023年产品上市。
现在Intel首次透露了这个“4nm EUV”工艺的进展，官方放出了48秒的视频，显示该工艺生产的晶圆测试过程，最后的结果就是通过了所有测试，内部的SRAM、逻辑单元、模拟单元都符合规范，芯片很“健康””。
Intel没有公布这个晶圆的具体情况，不过结合之前的信息来看，这个测试的晶圆应该是14代酷睿Meteor Lake，已经在今年第二季度完成计算单元的流片，现在测试非常合理。
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